真空电子管、晶体管&DRAM
1. 导读
读完这篇文章,你可以回答什么?
- 什么是真空电子管?真空电子管的基本原理?为什么后来不研究真空电子管了,改成去研究晶体管?
- 谁发明了晶体管?晶体管的类型以及发展历程?
- 谁发明了DRAM?为什么?
2. 起源
1800年伏达(vlota)发明了电池,因此我们可以对电进行学习,但在这之前我们只知道静电的存在,自从电池被发明之后,我们就可以更系统的学习相关的东西。世界上,有很多奇怪的人,在这样的人当中有人制造了玻璃管,为什么发明玻璃管呢?现在想,应该是为了控制灯耗而发明,爱迪生在研究灯泡的时候想的是延长灯亮的时间,那么讲究通过排空灯中的空气,之后,和电相连。如果不是特别古怪的人应该不会有这种想法,因此会产生独特的想法。阴极发出了光,形成光线,人们第一次看到这个会感到特别神奇。如果不感到神奇,那这个人有问题。之后,就有了真空管,从爱迪生到弗莱明再到弗雷斯特,都有着巨大的贡献。
3. Q1->A1
真空电子管是由美国的发明家德·弗雷斯特发明的,他被人们誉为真空三极管之父。其主要受到弗莱明发现的“真空电子二极管(具有单向导电性)”的启发,在阴极和阳极之间加了一个栅极,使得其起到一个控制电流的作用。真空电子管主要的作用是放大。
- lLee de Forest, 1906.
- lPrinciple: Based on the Vacuum Tube, the additional electrode has been added between the negative and positive electrode plate. That is called the Gate Electrode to realized the amplification of signal.
- l(Vpositive> Vgate> Vnegative)
真空电子管大概由三个部分组成,分别是灯丝(Header)、金属板(Plate)和网格(Grid)。灯丝的作用是产生电子,金属板的作用是接收通过Grid的电子,而网格的作用是控制通过其相应的电子数量,类似于电吉他的拾音器(Pick-up)。正常情况下,灯丝部分产生的是负电子,之后我们给金属板部分加上正电级,那么自然而然地电子会流到金属板去,但如果我们想要加快电子的流速,那么我们就向网格部分也加正电,这就会加速电子的流动。
真空电子管经过很长时间的发展期,不断地优化其大小,降低其功率的损耗,但最终还是放弃了继续优化,其中最具有代表性的就是苏联在上世纪一直延续使用真空电子管;除此之外,电子管的散热性比较差,容易出现过热的现象;成本比较高。反观transistor,体积比较小,工作电压也比较低,方便快捷。真空管制作困难、体积大、耗能高且使用寿命短,使得业界开始期望电子管替代品的出现。
4. Q2->A2
贝尔实验室成立半导体研发小组,其中威廉·肖克利(William Shockley) 担任组长,成员包括约翰·巴丁 (John Bardeen) 和沃尔特·布拉顿 (Walter Brattain)。
起初,晶体管是一种点触式的,称为Point-contact Transistor(1947);之后改进成为双端级型晶体管BJT(Bipolar JunctionTransistor );再后来就有了FET(Field Effect Transistor),其中包扩JFET(Junction Field Effect Transistor)(1948, William-Shockley)和MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor) (1959, D. Kahng and M.Atalla)
下边是对这几种常见的晶体管做了一个对比得到的:
5. Q3->A3
DRAM发明者、缩放物理学奠基人罗伯特·登纳德(Robert Dennard),被评为2019年SIA最高荣誉Robert N.诺伊斯奖。
在DRAM被发明出来之前,科技人员利用磁带、磁鼓、磁芯甚至打孔纸带来存储数据。但磁存储的诸多缺点,使得它必定要被科技的进步所替代。
以下是常见的Memory:
6. Reference
7. 声明
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